《科創(chuàng)板日報(bào)》15日訊，日本先進(jìn)半導(dǎo)體代工企業(yè)Rapidus購入的第一臺ASML EUV光刻機(jī)將于2024年12月中旬抵達(dá)北海道新千歲機(jī)場，這也將成為日本全國首臺EUV光刻設(shè)備。根據(jù)Rapidus高管以往表態(tài)，該光刻機(jī)是較早期的0.33 NA型號，而非目前全球總量不足10臺的0.55 NA（High NA）款。 (日本經(jīng)濟(jì)新聞)